自2019年以来，华为受到美国的严重限制，美国已经成为中国技术战争正式开始的具有里程碑意义的事件。从那时起，不仅华为，而且还有许多硬核技术公司，例如SMIC，CATL，DJI和BYD，都发现了美国的不合理罚款。目标非常明确，这是为了防止中国技术行业不断增长，甚至进步。但是，当东狮开始醒来时，任何障碍都毫无意义。经过多年的痛苦，配备了自发开发的基林芯片的华为伴侣60系列的兴起就像倒了一块冰水冰水的西部，从头到脚倒入。没有人知道，在美国的沉重围困下，真的有一家可以逃脱其“剪辑”的公司？世界各地的技术都处于混乱状态。但是，华为的绝地反击只是一个开始，美国是“脖子瓶”的每个地方都会面对风暴从东方返回。最近，该消息听说纯国内5NM光刻机器已正式发布。这个新闻足以使高梅墙精心构造的技术封锁完全崩溃！中国技术在短短几年内完成了数十年来技术积累的道路。这个史诗般的反击背后隐藏了什么样的故事？扩展全文 从“瓶颈”到“断路器”：绝地反击中国光刻机器 有时，光刻机器被认为是中国科学技术领域的“不可衡量的山峰”。美国与荷兰，日本和其他国家一起在中国施加了严格的技术封锁。 ASML的高端EUV光刻机器被禁止出口到中国，甚至中期和低端的DUV光刻机器也受到严格限制。有些人称为“专家”坚持：“中国无法建造50年的光刻机器。”阿尔多ugh据说ASML公司的首席执行官是无辜的，“即使图纸被公开，中国也无法建立它们。”这些声明曾经击中中国的信心，并使中国的半导体产业处于被动情况下。 但是，中国技术尚未投降。通过对国家政策的大力支持，上海微电子学领导的国内光刻机公司已经开始了很难进行独立研究和发展的Lashspell。从28nm到14nm，然后是今天的5nm，中国的光刻机器技术已经取得了“三步”的跳跃开发。 在中国半岛2025年，中国国际半导体设备和材料展览中，一个名为Xinkailai的国内半导体新闻名称首次亮相。该公司在散步中带来了惊人的飞溅，并为半导体过程带来了五个新设备。现在，导游还揭示了一个主要的消息，即纯国内光刻机已经发布了，它们的范围从5nm到28nm，真是太棒了！ 同时，中国在蚀刻机领域也产生了重大突破。独立开发的5NM蚀刻机具有惊人的准确性，可以准确地“雕刻”一千个头发，这为国内芯片提供了基本的支撑，以朝着高端发展。机器和光刻计算机就像芯片制造的“左右和左手”一样。这两种主要技术的突破意味着中国已经建立了完整的先进芯片制造能力。 5NM光刻机器的技术代码：该国如何实现曲线？ 国内5NM光刻机器的出现是偶然的，但是中国长期积累和技术以及多点突破的结果。在照明技术资源方面，中国 - 科学研究团队克服了强烈的紫外线SOU的“瓶颈”问题rce;在光学系统中，它的设计和制造均受到限制的精度损坏。在精密机械领域，它实现了纳米级运动控制。在诸如光电师之类的基本材料中，进口的交换也已完成。这些基本技术的独立控制是中国光刻机器打破5NM工艺能力的关键。 特别值得一提的是，中国采用了一种发展“整个连锁链中的变革合作”的模型。光刻机本身不仅会产生突破性，而且还会产生蚀刻机，胶片拆卸设备，检测设备等。这项技术的系统成功使中国半导体设备行业能够生成完整的生态链，并且不再受任何单个链接中的外国垄断。 同时，Inchina的芯片设计也同时提高。自发展的处理器Such随着华为Hisilicon和小米的企鹅芯片的Kirin Chip一直在不断变化，并与国内制造过程建立了良性接触。尽管尚未披露配备华为MATE60系列的Kirin芯片的具体过程，但其性能达到了国际高级水平，这与家庭光刻机器的支持密不可分。 以结尾写：中国对科学技术的自我依赖的回答 国内5NM光刻机器的突破不仅是技术上的成功，而且是精神上的成功。这证明了中国技术在封锁面前的僵化，表明了他们在进行基本的Onesg工作努力的机构集中度的好处，并为世界各地的发展提供了一个“中国解决方案”，以实现科学和技术的自力更生。 在激烈的技术竞争期间，中国使用E 5NM光刻机器向世界宣布主要技术无法购买或寻求。只有强迫独立变化，我们才能严格理解自己发展自己的倡议。这可能是中国科学技术带来的最深层灵感。回到Sohu看看更多